Xinkang Yüksek saflıkta %99.99 Niv7 Disk Nikel Vanadyum Alaşım Sputtering Hedefler

• After-sales Service: Within 30 Days After Shipment
• Condition: New
• Certification: RoHS, ISO9001
• Customized: Customized
• Material: Nickel Vanadium Metal Alloy
• Application: Metallurgy, Industry,Experiments,DIY.
• Hayır. Modeli.: XK-NiV
• kullanım: pvd film kaplama
• şekil: plaka, daire, topaklar
• teslimat süresi: 7 gün
• anahtar sözcükler: metal nikel krom alaşım
• yüzde: yok, %
• boyut: d50,8x3mm veya istek üzerine
• saflık: %99.9 - %99.99
• kimyasal bileşim: yok, %
• görünmeyelim: cilalı yüzey
• "mod: 1 adet
• ürün adı: nikel vanadyum metal alaşım hedefi
• paket: vakum haznesi
• Taşıma Paketi: Vacuum Sealed Package Inside
• Ticari Marka: XinKang
• Menşei: Hunan, China
• Üretim Kapasitesi: 1000000 Piece/Pieces Per Month

Ürün Açıklaması

Ürün Açıklaması

 

XinKang büyük İndirim Yüksek saflık oranı %99.99 NiV7wt% Nikel Vanadium hedefler Alaşım Sputtering Hedefleri

Ad	Metal Nikel Vanadyum Alaşım Sputtering Hedefleri
Saflık	%99.9 - %99.99
Boyut	D50,8x3 mm, D76,2x6 mm, 2 inç, 3 inç, istek üzerine
Ni kaynama Noktası	2732
Ni Yoğunluğu	8,9 g/cm³
Ni erime Noktası	1453.0
Şekil	Düzlemsel hedef, döner hedef.
"MOD	1 ADET
Uygulama	Buharlaşma malzemeleri, PVD Film kaplama vb.

Nikel-vanadyum alaşımı sputtering hedefinin hazırlık süreci

 

Malzeme Hazırlığı - vakum Endüksiyon erime - kimyasal Analiz - Forging - Rolling - Annealing - Metallographic Inspection - Machining Boyutlu İnceleme - Temizleme - Son İnceleme - Ambalaj

 

Entegre devrelerin üretilmesinde, saf altın genellikle ara bağlantı metali olarak kullanılır, silikon yonga plakası üzerine yerleştirilir, ancak altın yüksek dirençli AuSi bileşiği oluşturmak için silikon yonga plakası üzerine dağılır, bu da kablodaki akım yoğunluğunu büyük ölçüde azaltarak tüm kablo sisteminin arızalanmasına neden olur.

 

Bu nedenle, altın ince film ile silikon plakalar arasına yapışkan katman eklenmesi önerilir. Yapışkan katman genellikle saf nikel yapıdan yapılır ancak nikel katmanla altın iletken katman arasında da difüzyon oluşur, böylece altın iletken katman ile nikel yapışkan katman arasında dağılmayı önlemek için bir bariyer katmanı gerekir.

 

Yüksek erime noktası ve yüksek akım yoğunluğuyla vanadyum, bariyer tabakasını yerleştirmek için seçilir; bu nedenle nikel sputtering hedefi, vanadyum sputtering hedefi, altın sputtering hedefi entegre devrelerin üretimde kullanılır.

%7 vanadyum içeren nikel vanadyum NIV sputtering hedefleri nikel ve vanadyumun hem avantajlarına sahiptir, böylece bir kerede yapışkan katman ve bariyer katmanı elde edilebilir. NIV alaşımı manyetik olmayan malzemelerdir ve manyetron sıçramaya olanak sağlamaktadır. Elektronik bilgi sektöründe, saf nikel sputtering hedeflerinin yerini kademeli olarak alıyor.

 

 

 

 

Uygulama:  

Diğer İlgili Sputtering Hedefleri

Metal Hedefi	Ni, Al, Cu, V, Co, W, Mo, ta, Nb, CR, Ti, ZR, HF, mg, Fe, Zn, Pb, sn, Bi, GA, GE, in, si, C, B, te ve nadir toprak hedefleri
Alaşım Hedefi	Ni, Fe, Co, Cu, Al alaşımı ve özel alaşım
Buharlaşma Malzemeleri	Ni, Al, Cu, V, Co, W, Mo, ta, Nb, CR, Ti, ZR, HF, mg, Fe, Zn, Pb, sn, Bi, GA, GE, in, si, C, B, te ve benzeri
Seramik Hedefler	Oksit Seramik, Bileşik seramik hedefler.

 

Şirket Bilgileri

 

SSS

 

1. Şirket veya üretici ile ticaret yapıyor musunuz?
Xinkang: Bu alanda 10 yılı aşkın bir süredir uzman olan profesyonel bir üreticiyiz.

 

2 : Teslimat süresi ne kadardır?
Xinkang: Gönderi, bu normal boyut veya numuneler için 5-7 gün ve toplu halde 15-20 gün içinde hazırlayabilir.  
 
3 : MOQ var mı?  
Xinkang: Hayır, numuneleri destekliyoruz.

 

4 : Ödeme yönteminiz nedir?
Xinkang: Önceden T/T, Paypal, Western Union vb.