PVD Kaplama için alüminyum Sputtering Hedefi

• Tip: Metal Hedefi
• Şekil: Yuvarlak
• Sertifika: TUV (TUV, ISO, CE
• malzemeler: alüminyum al
• saflık: %99.5, %99.8, %99.9, %99.95
• "mod: 1 adet
• Hayır. Modeli.: XK-Al
• uygulama: yarı iletken
• serbest numune: kullanılabilir
• paketleme: vakumlu
• sertifika: coa, coc
• teslimat: 10-20 gün
• taşıma: hava yoluyla, deniz yoluyla
• menşe sertifikası: kullanılabilir
• Taşıma Paketi: Vacuum Sealed
• Teknik Özelikler: 100mm dia. x 45mm, 95mm dia. x 45mm, 63 x 32mm
• Ticari Marka: no
• Menşei: China
• HS Kodu: 848690
• Üretim Kapasitesi: 2000PCS/Month

Ürün Açıklaması

Alüminyum Sputtering hedeflerinin Özellikleri

Kimyasal bileşim: Saf Al
Kullanılabilir saflık: 2N5, 3N, 4N, 5N, 5N5
Üretim Teknolojisi:erime
Şekiller:düzlemsel hedefler, döner hedefler
Ortalama tane Boyutu: < 300um, ince taneleri yapılandırmak özelleştirilebilir


 Alüminyum Sputtering (Sputtering) hedeflerinin uygulanması

Alüminyum Sputtering hedefleri, genellikle  optik kaplama ve yarı iletken alan için geçerli olan eritme teknolojisiyle üretilir. Son kullanıcı, PVD  işlemi sırasında 5 N'ye kadar saflık, homojen ince film kaplamasının yanı sıra sabit aşınma oranları ve yüksek saflık oranı elde edebilir.