4n PVD Sputtering için Saf Tantalum Magnetron Hedefi

Ürün Ayrıntıları
Özelleştirme: Mevcut
Tip: Metal Hedefi
Şekil: yuvarlak, kare
Elmas Üye Fiyat 2018

Doğrulanmış işletme lisanslarına sahip tedarikçiler

Denetlenen Tedarikçi

Bağımsız bir üçüncü taraf teftiş kuruluşu tarafından denetlenmiştir

Yönetim Sistemi Sertifikasyonu
ISO 9001, ISO 14001
  • 4n PVD Sputtering için Saf Tantalum Magnetron Hedefi
  • 4n PVD Sputtering için Saf Tantalum Magnetron Hedefi
  • 4n PVD Sputtering için Saf Tantalum Magnetron Hedefi
  • 4n PVD Sputtering için Saf Tantalum Magnetron Hedefi
  • 4n PVD Sputtering için Saf Tantalum Magnetron Hedefi
Benzer Ürünleri Bul
  • Genel bakış
  • Ürün Açıklaması
  • Şirket Bilgileri
  • Ambalaj ve Nakliye
  • SSS
Genel bakış

Temel bilgiler.

Sertifika
ISO
ürün adı
ta hedefi
saflık
99.99%,99.95%,
boyut
özelleştirilmiş boyut
kimyasal bileşim
%99.99 ta
yoğunluk
16,654 g/cm3
Taşıma Paketi
vakumla yalıtılmış paket içinde
Teknik Özelikler
özelleştirilmiş
Ticari Marka
xinkang
Menşei
Hunan, China
Üretim Kapasitesi
ayda 100000 parça

Ürün Açıklaması

Ürün Açıklaması
 

Tantal, ta simgesi ve 73 atom numarası olan kimyasal bir öğedir. Daha önce tantal olarak bilinen bu isim, Yunan mitolojisinden gelen bir kötü adam olan Tantalus'tan geliyor. Tantal, paslanmaya karşı son derece dayanıklı, nadir bulunan, sert, mavi-gri, parlak bir geçiş metalidir. Alaşımlarda küçük bileşenler olarak yaygın olarak kullanılan refrakter metaller grubunun bir parçasıdır. Tantal koyu (mavi-gri), yoğun, yumuşak, çok sert, kolay imal edilmiş ve ısı ve elektrik iletkenliği yüksek bir parçadır. Metal, asitlerle korozyona karşı direnci ile tanınır; aslında 150°C'nin altındaki sıcaklıklarda tantal, normalde agresif olan su alayının saldırısına karşı neredeyse tamamen bağışıktır.  

 

Tantal Sputtering Target, EB melting tarafından üretilir. Genellikle manyetik kayıt ortamları, yazıcı bileşenleri, düz panel ekranlar, optik, endüstriyel cam, ve ince film rezistörleri.  Yüksek saflıkta tantal Sputtering Target, normalde yarı iletken uygulaması için kullanılır. Tantal'in düşük termal genleşme katsayısıyla yüksek doğal gücü ve hem bakır hem de silikona yapışma özelliği, bakır ve silikonun etkileşime girmesini önlemek için difüzyon engeli için mükemmel bir seçim olmasını sağlar.

 

XK, çoğunlukla yarı iletken ve mikro elektronik endüstrisine uygulanan çeşitli şekil ve saflık ile tantal sputtering hedeflerinin profesyonel üreticisidir. Kullandığımız özel şekillendirme süreçleri sayesinde tantal sputtering hedeflerimiz daha yüksek yoğunluk, daha küçük ortalama parçacık boyutu ve yüksek saflık sunar. Bunun sonucunda , daha yüksek sputlama hızları sayesinde daha hızlı bir süreçten yararlanabilir ve çok homojen tantal katmanları elde edebilirsiniz.

Üretim sürecimizin esnekliği , kaplama malzememizin mikro yapısını istediğiniz etkiyi elde edecek şekilde ayarlamanıza olanak tanır. Fırıltı hedefinin taneleri eşit olarak hizalanmışsa kullanıcı sabit erozyon oranlarından ve homojen katmanlardan yararlanabilir. Aşağıdaki resimde tantal sputtering hedefimizin iki tipik mikrografiği, ortalama tane boyutu < 100 μm.

 

     Kimyasal saflık, metal saçılan hedefler için çok önemlidir. Saflık daha yüksekse elde ettiğiniz filmler PVD işlemi sırasında daha üstün bir elektriksel iletkenlik seviyesine ve en aza indirilmiş parçacık oluşumuna sahiptir. Aşağıdaki form, 3N5 yüksek saflıkta tantal sputtering hedefi için tipik bir analiz sertifikasıdır.
Analitik yöntemler: 1. Metalik elemanlar ICP-OES kullanılarak analiz edilmiştir. 2.Gaz öğeleri LECO kullanılarak analiz edilmiştir.  

Güçleriyle Gerçek Özellikler Birimler Güçleriyle Gerçek Özellikler Birimler Güçleriyle Gerçek Özellikler Birimler
Li     ppm ZN     ppm Pb     ppm
B     ppm GA     ppm İki     ppm
F     ppm GE     ppm Y     ppm
Yok     ppm Olarak     ppm TH     ppm
Mg     ppm SE     ppm Er     ppm
Al     ppm ZR     ppm Ru     ppm
Si 1   ppm Not 10   ppm RB     ppm
P     ppm Ay 10   ppm SR (SR     ppm
CL     ppm PD     ppm SC     ppm
K     ppm AG     ppm Olmak     ppm
CA     ppm Sn     ppm Sağ     ppm
TI 1   ppm Küçük İşletme     ppm CD     ppm
V     ppm Ba     ppm        
CR     ppm HF     ppm        
MN (Min.     ppm Ta Matris   i̇zlenme süresi yüzdesi C 30   ppm
FE 1   ppm G 33   ppm S     ppm
Yardımcı     ppm PT     ppm O 68   ppm
Ni 1   ppm Avustralya     ppm N     ppm
Cu     ppm HG     ppm H 5   ppm

 

 

Şirket Bilgileri

 

 

4n Pure Tantalum Magnetron Target for PVD Sputtering

 

 

4n Pure Tantalum Magnetron Target for PVD Sputtering

4n Pure Tantalum Magnetron Target for PVD Sputtering4n Pure Tantalum Magnetron Target for PVD Sputtering4n Pure Tantalum Magnetron Target for PVD Sputtering4n Pure Tantalum Magnetron Target for PVD Sputtering4n Pure Tantalum Magnetron Target for PVD Sputtering4n Pure Tantalum Magnetron Target for PVD Sputtering4n Pure Tantalum Magnetron Target for PVD Sputtering


 

Ambalaj ve Nakliye

Standart ihraç ambalajı:  İçinde vakumla kapalı  paket ; dış kısmında karton veya ahşap kasa  

Gönderi     FedEx, DHL, UPS, TNT Express vb.   tarafından brüt ağırlık ≤ 100 KG için hazırlayabilir;

   ≥ 100 KG olan büyük gönderiler için   , sevkıyat yöntemi     sizinle görüşülecektir.  

 

SSS

 

1. Şirket veya üretici ile ticaret yapıyor musunuz?
Xinkang: Bu alanda 10 yılı aşkın bir süredir uzman olan profesyonel bir üreticiyiz.

Coalting malzemeleri için yüksek saflıkta kobalt külçe

2 : Teslimat süresi ne kadardır?
Xinkang: Gönderi, bu normal boyut veya numuneler için 5-7 gün ve toplu halde 15-20 gün içinde hazırlayabilir.  
Coalting malzemeleri için yüksek saflıkta kobalt külçe
3 : MOQ var mı?  
Xinkang: Hayır, numuneleri destekliyoruz.

Coalting malzemeleri için yüksek saflıkta kobalt külçe

4 : Ödeme yönteminiz nedir?
Xinkang: Önceden T/T, Paypal, Western Union vb.

Coalting malzemeleri için yüksek saflıkta kobalt külçe

Bizimle istediğiniz zaman iletişime geçin!  

 

Sorgunuzu doğrudan bu sağlayıcıya gönderin

*İtibaren:
*Şuradan:
*Mesaj:

Lütfen 20 ila 4000 karakter arasında girin.

Aradığınız şey bu değil? Satın Alma talebini Şimdi Yayınla
İletişim Tedarikçi