İyon temizleme işlemi DC/RF Çift Kafalı Yüksek vakum ile manyetron sputlama 2" Magnetron Plazma Sputtering Coater
Manyetron sputtering sisteminin kısa tanıtımı:
CY-MSP-RFDC, metalik film kaplama için bir DC kaynağı ve metalik olmayan malzeme kaplaması için bir başka RF kaynağı gibi çift 2 inç hedef kaynağı olan kompakt bir manyetron casuslama sistemidir. Kullanıcının işlemi kolayca kontrol edebilmesini sağlamak için bir film kalınlığı takipçisi bulunur. Bu su kaması, alaşım, ferroelektrik, yarı iletken, seramik, Dielektrik, optik, PTFE vb. düşük maliyetle.
Ürün Açıklaması
Manyetron sputtering sisteminin kısa tanıtımı:
CY-MSP-RFDC, metalik film kaplama için bir DC kaynağı ve metalik olmayan malzeme kaplaması için bir başka RF kaynağı gibi çift 2 inç hedef kaynağı olan kompakt bir manyetron casuslama sistemidir. Kullanıcının işlemi kolayca kontrol edebilmesini sağlamak için bir film kalınlığı takipçisi bulunur. Bu su kaması, alaşım, ferroelektrik, yarı iletken, seramik, Dielektrik, optik, PTFE vb. düşük maliyetle.
Ayrıntılı fotoğraflar
DC/RF Çift Kafalı Yüksek Vakumlu 2 inç Manyetron Plazma özelliği Dövücü Komak sistemi
| Kompakt Yapı |
|
| Giriş Gücü |
- 220 VAC 50/60 Hz, tek fazlı
- 2000 W (pompa dahil)
|
| Kaynak Gücü |
İki ayrı güç kaynağı tek bir kontrol kutusuna entegre edilmiştir
- DC kaynağı: Metal malzemelerin kaplanması için 500W
- RF kaynağı: Metalik olmayan malzemelerin kaplanması için otomatik olarak yol verme ile 600W (Merkez)
- Kompakt 300 RF kaynağı ekstra maliyetle mevcuttur
|
| Manyetron Püskürtme Kafası |
- Su soğutmalı ceketlere sahip iki adet 2" Manyetron Püskürtme Kafası dahil
- İletken olmayan malzemeler için RF güç kaynağına bağlanır
- Bir diğeri kaplama için DC sputtering güç kaynağına bağlıdır metalik malzemeler
- Hedef boyut gereksinimi: 2" çap
- Kalınlık Aralığı: Hem metalik hem de iletken olmayan hedefler için 0.1 - 5 mm
- Bir adet paslanmaz çelik ve bir adet Al2O3 seramik hedef dahildir demo testi için
- Kafa suyu Soğutma: 10 ml/dak su akışı gerekir ve her iki manyetron damlama kafasını soğutmak için bir adet 16 ml/dak dijital olarak kontrol edilen devridaim yapan su soğutucu dahildir
- Özelleştirilmiş koltuk: Kablosuz iki DC kafa, RF sputluk, DC sputering'siz RF kafa, istek üzerine 3 RF kafa mevcuttur
|
| Vakum Odası |
- Vakum Odası: 300 mm Çap x 400 mm yükseklik, paslanmaz çelikten yapılmıştır
- Gözlem Penceresi: 100 mm çap
- Havalı yay spor yapbozlar ile üst kısımda menteşeli tip kapak kolay hedef değiştirme
|
| Numune tutucu |
- Numune tutucu boyutu: Için çapı 140 mm 4 inç yonga plakası maks
- Numune tutucu dönüş hızı ayarlanabilir: Tek tip kaplama için 1 - 20 dev/dak
- Tutucu sıcaklığı RT ile 500°C arasında ayarlanabilir Maks /- 1.0°C hassasiyetle
|
| Gaz Akışı Kontrolü |
- İki hassas dijital MFC (kütle akış kontrolörü) i̇ki tip gazın takılabilmesini sağlamak için takılır doldurduğu
- Akış hızı: 200 ml/dak maks
- Akış hızı 6 inç dokunmatik ekran kontrolünde ayarlanabilir panel
|
| Vakum pompası İstasyonu |
- Yüksek hızlı turbo vakum pompası sistemi (Almanya'da üretilmiştir), maksimum vakum seviyesi için doğrudan vakum haznesine takılır
- Ağır hizmet tipi çift kademeli mekanik pompa turboya bağlıdır daha yüksek pompa hızı için pompa
- Mobil pompa istasyonu ve kompakt sputtering koater dahildir i̇stasyonun üstüne konabilir
- Maks. Vakum seviyesi: -6^10 torr ve oda pişirme
|
| Kalınlık Monitörü |
- Bir adet Hassas kuvars kalınlık sensörü odaya dahil edilmiştir Kaplama kalınlığını 0.10 Å hassasiyetle izlemek için
- LED Ekran Ünitesi odanın dışında 5 adet kuvars sensör (sarf malzemesi) içinde oluyorsun
- Birlikte verilen veri tabanına göre kapanacak giriş malzemesi
- Toplam kaplamalı kalınlığı ve kaplama hızını göster
-
- Su soğutması gerekir
|
| Genel Boyutlar |
U 1300 mm × G660 mm × Y 1200 mm |
| Net Ağırlık |
460 kg |
| Garanti |
Ömür boyu destek ile bir yıllık sınırlı garanti |
| Uygulama Notu |
- Odadan oksijen çıkarmak için 2-3 kez %5 Hytrojen + %95 Nitrojen kullanmanızı tavsiye edin; bu, oksijeni 10 ppm'nin altına düşürebilir
- Lütfen plazma sputtering için > 5N saflık Argon gazı kullanın. 5N saflık AR'ı olsa da genellikle 10 - 100 ppm oksijen ve H2O içerir
|
Ürün Parametreleri
DC/RF Çift Kafalı Yüksek Vakumlu 2 inç Manyetron Plazma Ekran Dövücü Komak sistemi
i̇htiyacınız olabilecek diğer plazma sputtering & evaporating coater:
Denetlenen Tedarikçi 
