Farklı Sputtering Hedefleri olan Manyetron Sputtering Kaplama Malzemeleri

• Tip: Alaşım Hedefi
• Şekil: Plaka
• Sertifika: ISO
• Taşıma Paketi: Vacuum Packaging
• Teknik Özelikler: Dia25.4mm, 50.8mm, 101.6mm etc
• Ticari Marka: RongSin
• Menşei: China
• Üretim Kapasitesi: 500tons/Month

Ürün Açıklaması

Ürün Açıklaması

Püskürtme hedefi

Sputtering (sputtering) hedefi, sputter deposition (sputter birikim) veya Thin film (ince film) olarak bilinen bir teknikte ince filmler oluşturmak için kullanılan bir malzemedir
konum değiştirme. ... Sonuç olarak, birçok püskürtücü hedef malzeme metalik elemanlar veya alaşımlardır, ancak çeşitli aletler için sertleştirilmiş ince kaplamalar oluşturan bazı seramik hedefler mevcuttur.
 

Oksitler Sputtering Hedefi
Ag2O	Al2O3	AZO
B2O3	BaxSr1-xTiO3	BaFe1219
Bao	BaTiO3	Bi2O3
Bi2Se3	BiFeO3	Ca5 (PO4) 3 (OH)
CAO	Cd2SnO4	CDO
İçerik 2O4	COO (COO	Co3O4
Cr2O3	CR/SiO	CuO
Cu2O	KüAlO2	DyFeO3
Dy2O3	Er2O3	Eu2O3

 

Şu2O3	3O4	GeO2	In2O3	In2O3/Ga2O3/ZnO
In2O3/ZnO	LaMnO3	LaNiO3	LaxSryMnO3	3PO4 Lira
Likit O2	ŞuPO4	Lira-2O4	LNbO3	MgAl2O4
MnO	MnO2	Mo2C	MoO3	NiFe2O4
NIO (NIO	PbTiO3	PbZr0,52 Ti0,48O3	Sc2O3	SnO
SnO2	SrTiO3	TeO2	V2O5	VO2
WO3	Y3Fe5O12	ZnO	ZnO + Al2O3	YSZ (ZrO2/Y2O3)
ITO	İZO	AZO	IAZO	IGZO
GZO	FTO	Y2O3	ATO (Sb2O3/SnO2)	LaAlO3

Sülfür Sputtering Hedefi
 

Sb2S3	Bas	Bi2S3	CD'ler	CAS
Cr2S3	KO	Çağlar	In2S3	Fes (Fes
Pzt	MGS	Bayan	MOS2	SiS2
TaS2	SnS2	WS2	ZnS	Ag2S
As2S3	NBS	L2S	3PS4 Lira

Akıtma Hedefi
 

AlF3	BaF2	CaF2 (CaF2	CdF2	CeF3
Csf	CrF3	DyF3	ErF3	GdF3
HfF4	LIF	LaF3	MgF2	MnF2
GülümF3	Na5Al3F14	NaF	SrF2	TbF3
ThF4 (ThF4	SnF2	TiF3	YbF3	YF3
ZnF2	ZrF4	PbF2

Titreme Hedefi
 

Alte (Alte	Sb2Te3	Bi2Te3	CdTe (CdTe	Ga2Te3
GET	In2Te3	PbTe	MnTe	MoTe2
NbTe2	Gece	TaTe2	SnTe (SnTe	WTe2 (2
ZnTe	Lik2T

Saf Metal Sputtering Hedefi
 

Alüminyum	Antimon	Baryum	Bizmut	Bor (Bor
Kadmiyum	Kalsiyum	Seryum	Krom	Kobalt
Bakır	Dysprosium	Erbium	Avrupa	Kadolinium
Germanyum	Altın	Karbon	Hafniyum	Holmium
Hint	İridyum	Demir	Lantan	Idare edebileceğini
Lityum	Lutetium	Magnezyum	Manganez	Molibden
Neodimyum	Nikel	Niobium	Palladyum	Platin
Praseodimium	Rhenium	Rodyum	Samarium	Scandium
Selenyum	Silikon	Gümüş	Tantal	Tellurium
Terbium (Terbium	Thulium	Kalay	Titanyum	Tungsten
Vanadyum	Ytterbium	Yttrium	Çinko	Zirkonyum

Alaşım hedefleri  

ALB	ALCr	Toplam	Alsi	Alti
ALZr	CoFe	İçerik B	CrGe	CuSe
Cu2Se	FeCrAl	Şum	ŞuPt	Şuzr
Boşluk	Hfsi	InSb (Uluslararası	NiCr	NiCrAl
NiCrSi	NiCu	NiMn	NiTi	NIV
NiZr	İskandal	Taş	TaMo	Snzn
TiAl (TiAl	TiAlV	TiAlsi	TiCo	Kalay
TiW	ZnAl	ZnCu	GuInGaSe	Ağu
Avustralya	Avustralya	Ağu	Avustralya	AgCu
SnAgCu	IrMn	IrPt	Sayfa

Nitslukların Akıtma Hedefi

ALN	KAH	Cr2N
HfN	NbN	Si3N4
Ten	Kalay	ZrN

Karbür Sputtering Hedefi
 

B4C	Cr3C2	HFC
Şu3C	Mo2C	NBC
SIC	TAC	TİC
KLOZET	SANAL PARALAR	ZrC